深圳恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机.

　　了解详细

　　恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000L超纯水防静电装置

　　深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机使用。 型号：ELK-1000L ELK-2000L ELK-3500L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L

　　了解详细

　　深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置，超纯水防静电装置的用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机使用。型号：ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-7000L ELK-10000L

　　了解详细

　　深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是晶圆切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机使用。 型号：ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-7000L ELK-10000L

　　了解详细

　　深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是晶圆切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机.型号：ELK-500L、ELK-1000L、 ELK-2000L、 ELK-3500L、ELK-5000L、ELK-7000L、ELK-100000L

　　了解详细

　　深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是晶圆切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机。